紫外線清潔技術(shù)的應(yīng)用主要用于液晶顯示設(shè)備，半導(dǎo)體硅片，集成電路，高精度印刷電路板，光學(xué)設(shè)備，石英晶體，密封技術(shù)以及帶有氧化膜的金屬材料的生產(chǎn)過程中。 適當(dāng)。

主要材料：ITO玻璃，光學(xué)玻璃，鉻板，掩模板，拋光的石英晶體，硅片和帶有氧化膜的金屬等，用于精密清潔。

可以去除污垢：有機污垢，人體皮脂，化妝品油，樹脂添加劑，聚酰亞胺，石蠟，松香，潤滑油，殘留的光致抗蝕劑等。

此UV光源具有UV改性的特性 （LCD的表面質(zhì)量變化）。 目前，在LCD STN的生產(chǎn)過程中，它主要用于薄膜加工技術(shù)中。 薄膜之間的粘合非常有效，例如ITO薄膜和光敏薄膜層，TOP涂層和PI涂層等。此外，它還可以用于UV改性塑料材料產(chǎn)品的研究部門進行納米技術(shù)研究。 紫外線照射后，產(chǎn)品會發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而改變產(chǎn)品的表面性能。 在STN-LCD，彩色濾光片和OLED的生產(chǎn)過程中，某些過程設(shè)備相當(dāng)相似，不同之處在于不同的制造過程要求。 隨著電路的細化和產(chǎn)品的色彩比例的提高，LCD行業(yè)對制造工藝的要求也在不斷提高，并且對“想做得好，必須先提高其工具的工人”的需求不斷提高，因此只有設(shè)備能力不斷提高 改善。 為了提高生產(chǎn)質(zhì)量和效率。

本文章由三昆廠家整理原創(chuàng)，轉(zhuǎn)載請注明出處：http://www.fa51q.cn/UVd/5465.html